透射电镜是一种高分辨率、高放大倍数的显微镜，是材料科学研究的重要手段，能提供极微细材料的组织结构、晶体结构和化学成分等方面的信息。透射电镜的分辨率为0.1～0.2nm，放大倍数为几万～几十万倍。

　　透射电镜样品制备要求

　　透射电镜制样原则：

　　①简单。

　　②不破坏样品表面，如：避免磨样过程中产生的位错及离子减薄过程中产生的非晶现象等。

　　③尽可能获得大的薄区。

　　透射电镜样品要求：

　　①对电子束透明(电子束穿透固体样品的厚度主要取决于：加速电压和样品原子序数)。

　　②固体、干燥、无油、无磁性。

　　透射电镜块体样品的制备方法：

　　1、离子减薄

　　特点：不受材料电性能的影响，即不管材料是否导电，金属或非金属或者二者混合物，不管材料结构多复杂均可用此方法制备薄膜。

　　①样品裁剪：将透射电镜样品冲压成直径3mm的圆片。

　　②研磨抛光：将透射电镜样品圆片用手动研磨盘手动研磨至厚度低于80微米的圆片。

　　③凹坑：凹坑仪单面凹坑至圆片ZX厚度为10-30微米。

　　④离子减薄：设置好离子枪角度、减薄时间、加速电压将样品减薄至出现足够薄区。

　　2、电解双喷

　　特点：受材料电性能的影响，只能用于金属样品，并且耗时短成本低。

　　①样品裁剪：将透射电镜样品冲压成直径3mm的圆片。

　　②研磨抛光：将透射电镜样品圆片用手动研磨盘手动研磨至厚度低于100微米的圆片。

　　③凹坑：凹坑仪单面凹坑至圆片ZX厚度为10-30微米。

　　④电解双喷：设置好电解液、电压、温度将样品减薄至出现足够薄区。

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